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Professur Smart Systems Integration
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Professur Smart Systems Integration 

Student Jobs, Thesis

NEW: Students of the Master course »Micro and Nano Systems« should apply for a research project on Bildungsportal Sachsen.

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Der technologische Fortschritt im Bereich der Halbleiterindustrie beruht im Wesentlichen auf der fortgesetzten Miniaturisierung von integrierten Schaltungen und Mikro-Elektro-Mechanischen-Systemen (MEMS). Eine der Schlüsseltechnologien, um diese Skalierung zu erreichen ist die lithographische Strukturierung von Substraten. Gängige kritische Dimensionen dieser Strukturen liegen heutzutage im Bereich zwischen 20-100nm. Um diese Höchstauflösung zu ermöglichen, sind besondere Anforderungen an das Lithographietool und den zu verwendenden Lack zu stellen.
Am Fraunhofer Institut ENAS steht mit dem Vistec SB254 ein hochmoderner Elektronenstrahlbelichter (Formstrahler) der neuesten Generation zur Verfügung, der SEMI-Standard Si Substrate der Größen 4“,6“ und 8“ belichten kann. Im Rahmen dieser studentischen Arbeit soll die wechselseitige Abhängigkeit zwischen Elektronenstrahlparametern und Lack Prozessparametern untersucht werden.

Im Besonderen sollen die erzielten Lackprofile & Lackstrukturen im Rasterelektronenmikroskop (JEOL JSM7800 F) charakterisiert werden und für die nachfolgende Prozesstechnologie optimiert werden. Dabei soll ein neuartiges Lacksystem als Alternative zum HSQ-Lack, welches in Kooperation mit dem Lackhersteller Allresist GmbH entwickelt wird, untersucht werden:

Insbesondere der Negativlack weist chemische Eigenschaften auf, der ihn gleichermaßen sensitiv für die Belichtung im optischen Spektrum und mit Elektronen macht. In einem ersten Schritt werden die Homogenität und die Schichtdicke der Lacke über den Wafer statistisch erfasst. Anschließend werden Teststrukturen in den Lack belichtet und mit dem REM charakterisiert. Basierend auf diesen Ausgangswerten werden die Belichtungsparameter und Prozessparamter variiert.

Die Aufgaben im Einzelnen:

  • Erstellung einer Untersuchungsserie (Variation der Lackdicke
  • Spin-Kurven) auf 6“-Si Substraten mit dem zuvor genannten Lack (Oberflächenprofilometrie)
  • Erstellung einer Testbelichtung mit Variation der Belichtungs- und Prozessparameter (Kontrastkurven)
  • Auswertung einer Belichtungsserie (Variation der Elektronendosis/ Prozessparameter) belackter Wafer mit einem Testdesign und Bewertung der Lackprofile/Strukturen

Art der Arbeit: Bachelorarbeit, Projektarbeit, Masterarbeit

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Possible as: Student research project, Bachelor-Thesis, Master-Thesis

Addressed topics: MEMS, Micro- and Nanoelectronics, Nano technology, Measurement / analytics, Processes / technology

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Labels: Student research project   Student Assistance   Bachelor-Thesis   Master-Thesis   Diploma Thesis   PhD Position  

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