Springe zum Hauptinhalt
Professur Smart Systems Integration
HiWi-Jobs, Studienarbeiten, Abschlussarbeiten, ...
Professur Smart Systems Integration 

Student Jobs, Thesis

NEW: Students of the Master course »Micro and Nano Systems« should apply for a research project on Bildungsportal Sachsen.

Apply filter
Job Type
Topic
Working field
Sort by
Description(?)Type of Job
#334  
#331  
#328  
#327  
#325  
#323  
#311  
#313  
#314  
#315  
#316  
#312  
#299  

Ziel der Arbeit ist, mit Plasmaätzverfahren Gruben mit vertikalen Wänden in einkristallinem Silizium zu ätzen. Im Sinne einer Verbesserung des Umwelt- und Klimaschutzes dürfen hierfür keine fluorkohlenstoffhaltigen Prozeßgase zum Einsatz kommen.
Eine Möglichkeit der Umsetzung dieser Aufgabe wurde von Nguyen u. a. gezeigt [1–4].

Aufgabenstellung

  1. Literaturrecherche zum Thema
  2. Vermessung bzw. Charakterisierung vor und nach den Ätzversuchen
  3. Übertragung eines in der Literatur beschriebenen und geeigneten Ätzprozesses auf die Gegebenheiten am ZfM
  4. Versuchsplan aufstellen
  5. Durchführung der Ätzversuche
  6. Untersuchung der Ätztiefen und -profile mit unterschiedlichen Meßmethoden z.B. Oberflächenprofilometrie, Fokusdifferenzmethode am Lichtmikroskop
  7. Auswertung der Ergebnisse

[1] V. T. H. Nguyen et al. , “The CORE Sequence: A Nanoscale Fluorocarbon-Free Silicon Plasma Etch Process Based on SF6/O2 Cycles with Excellent 3D Profile Control at Room Temperature”, ECS Journal of Solid State Science and Technology , Bd. 9, H. 2, Art. 24002, Jan. 2020.

[2] V. T. H. Nguyen, E. Shkondin, F. Jensen, J. Hübner, P. Leussink, and H. Jansen, “Ultrahigh aspect ratio etching of silicon in SF6-O2 plasma: The clear-oxidize-remove-etch (CORE) sequence and chromium mask”, Journal of Vacuum Science & Technology A , Bd. 38, H. 5, Art. 53002, Sep. 2020.

[3] V. T. H. Nguyen, F. Jensen, J. Hübner, P. Leussink, and H. Jansen, “On the formation of black silicon in SF6-O2 plasma: The clear, oxidize, remove, and etch (CORE) sequence and black silicon on demand”, Journal of Vacuum Science & Technology A , Bd. 38, H. 4, Art. 43004, Jul. 2020.

[4] V. T. H. Nguyen, “Directional Nanoscale Silicon Etching using SF6 and O2 Plasma,” Diss., Dänemarks Technische Universität, 2020.

Art der Arbeit: Projektarbeit

Contact: Apply for this job by email

Possible as: Student research project

Addressed topics: MEMS, Micro- and Nanoelectronics, Nano technology, Measurement / analytics, Processes / technology

#285  
#307  
#308  
#284  
#291  
#298  

Labels: Student research project   Student Assistance   Bachelor-Thesis   Master-Thesis   Diploma Thesis   PhD Position  

  • Ki generiertes Bild

    Offen für Argumente geht in die zweite Runde

    Online-Debattenformat der Juniorprofessur Soziologie der TU Chemnitz thematisiert am 10. September 2025 die Rolle der Solarenergie im Zuge der Energiewende …

  • Gruppe vieler Menschen

    Let's run #TUCgether!

    Zum Jubiläum des Chemnitzer Firmenlaufs gingen 266 Laufbegeisterte für die TU Chemnitz an den Start …

  • Menschen stehen vor einer Leinwand

    Erfolgreiche Summer School an der TU Chemnitz

    Professur Medienpsychologie und die Hochschulallianz Across begrüßten zur Summer School „How much science is in science fiction?“ medienbegeisterte Nachwuchswissenschaftlerinnen und -wissenschaftler aus neun verschiedenen Ländern …

  • Menschen stehen vor einem Haus

    Als Azubi an die Uni? Ja, klar!

    Kanzler der TU Chemnitz begrüßte neue Auszubildende und gratulierte Absolventinnen und Absolventen zum erfolgreichen Berufsabschluss – TU Chemnitz bildet aktuell in zehn Berufen aus …