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Physik: Magnetische Funktionsmaterialien
Tutoriums Exkursion (Master)
Physik: Magnetische Funktionsmaterialien 

Tutoriums-Exkursion im Master Physik

Prof. Dr. Olav Hellwig (E-Mail: )

Am 28.11.2024 findet dieses Semester die Tutoriums-Exkursion im Master Physik statt. Wir besuchen dieses Jahr die Firma scia-Systems in Chemnitz und werden dort einen Übersichtsvortrag, einen Spezialvortrag und eine Reinraumführung bekommen.

Die Exkursion wird von 9-12 Uhr dauern. Treffpunkt ist entweder 8:30 Uhr vor dem Physikgebäude oder um 9 Uhr dann direkt im Eingangsbereich von scia Systems (Adresse: scia Systems GmbH, Clemens-Winkler-Straße 6c, 09116 Chemnitz).

Wenn Sie an der Exkursion teilnehmen möchten, dann melden Sie sich bitte bei meiner Sekretärin Frau Hübner (E-Mail: ) per Email an. Bitte geben Sie auch an, ob Sie direkt um 9 Uhr zu scia-Systems kommen oder um 8:30 Uhr eine Mitfahrgelegenheit ab dem Physikgebäude benötigen.

Es können maximal 20 Personen an der Exkursion teilnehmen. Hierbei haben die Physik Masterstudenten, insbesondere diejenigen, die auch noch einen Exkursionsbericht als Leistungsnachweis benötigen, Priorität.

Verbleibende freie Plätze können dann auch noch durch Interessierte aufgefüllt werden, bitte entsprechend auch bei Frau Hübner anmelden.

Informationen zur Tutoriums-Exkursion im Master Physik im WS 2024/2025

Für Rückfragen stehe ich gern zur Verfügung.

Olav Hellwig

Info zu scia Systems:

Ionenstrahl- und Plasmaverfahren in Mobilkommunikation, Optik und Biotechnologie

scia Systems aus Chemnitz hat sich in den vergangenen Jahren zu einem wichtigen Ausrüster zur Fertigung von MEMS-Bauelementen und Baugruppen für die Optikindustrie entwickelt. Unter Nutzung von Vakuumverfahren werden Produktionsanlagen unter anderem zur Herstellung von Frequenzfiltern für die Mobilkommunikation, Sensoren und optische Komponenten für EUV-Lithographie, Mikrooptiken für AR-Anwendungen bis hin zu Optiken für die Astrophysik hergestellt. Alle eingesetzten Verfahren nutzen kontaktlose Plasma- und Ionenstrahlverfahren, mit denen sich Strukturdimensionen durch Materialabtrag oder Materialabscheidung im Nanometerbereich exakt einstellen lassen.

MEMS = microelectromechanical systems
EUV = Extreme ultraviolet (lithography)
AR = Augmented reality (Erweiterte Realität)

Dokumente zur Tutoriums-Exkursion

scia Systems overview

Nestler High Thpt MSD tilted AlN

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