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Professur Werkstoff- und Oberflächentechnik
Professur Werkstoff- und Oberflächentechnik
Professur Werkstoff- und Oberflächentechnik 

Gemeinsam mit der Fa. Manz Galvanotechnik wurde eine modular aufgebaute und sehr flexible Anodisieranlage entwickelt, an der Werkstoff- und Oberflächentechnik aufgebaut und 2003 in Betrieb genommen. Bei der Konzeption dieser Anlage wurde Wert auf eine große Variationsbreite bezüglich der Prozessparameter Temperatur (0 bis 50 °C), Stromart (Gleichstrom, Wechselstrom, Pulsstrom), Stromstärke, Spannung und Frequenz gelegt. Durch eine spezielle Software können gewünschte Impulse frei gezeichnet und komplexe elektrische Programmschritte programmiert werden. Für neue Forschungsvorhaben auf dem Gebiet der Oberflächenveredlung von Leichtmetallen wird die Anodisieranlage gegenwärtig noch erheblich erweitert. Damit sind in Kürze plasmachemische Beschichtungsprozesse (anof, Funkenentladung) zu realisieren. Ebenso wird ein Prozessbad entwickelt, dass die Einlagerung von Nanopartikeln in die Schicht zur Verbesserung funktionaler Eigenschaften ermöglicht.

Technische Parameter:

  • Fa. Manz Galvanotechnik
  • Modulare Bauweise
  • sehr flexible Prozessparameter:
    • Temperatur von 0 bis 50 °C
    • Stromart (Gleichstrom, Wechselstrom, Pulsstrom)
    • Stromstärke bis 100 A
    • Spannung bis 120 V
    • Frequenz bis 500 Hz
    • Schichtdicke bis 200 µm

Einsatzgebiete:

Erzeugung anodischer Oxidschichten mit hoher Durchschlagfestigkeit in < 2 min

  • Dekorative Schichten (Hochbau)
  • Korrosionsschutzschichten (Automobiltechnik)
  • Isolierende Schichten (Elektrotechnik)

 

Hochflexible Laboranlage zur anodischen Oxidation

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