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Professur Elektronische Bauelemente der Mikro- und Nanotechnik
Professur Elektronische Bauelemente der Mikro- und Nanotechnik

Dipl.-Ing. Ralf Seidel

jetzt Entwickler bei Electronic Design Chemnitz GmbH



Arbeitsgebiete

  • Forschungsprojekt "In-die Parametervariation" mit GLOBALFOUNDRIES
    • theoretische Arbeiten zum Sachgebiet
    • Entwicklung von geeigneten Messverfahren zur Aufnahme von Parametervariationen von Transistorarrays und speziell kontaktierten Transistoren aus dem Die
    • Entwicklung und Bereitstellung von Auswerte- und Darstellungsverfahren
    • Vorbereitung von Experimenten zur Untersuchung von In-die Parametervariationen
    • Mitarbeit bei der Entwicklung von geeigneten Teststrukturen
    • Vergleichende Messungen und Betrachtungen zwischen Transistoren mit dem Gatesystem SiON/POLY im Vergleich zu HKMG und HKMG/POLY

Veröffentlichungen

  • Heinz, S.; Erler, K.; Walter, T.; Seidel, R.; Horstmann, J. T.; Neubert, M. (EDC GmbH); Pohle, A. (EDC GmbH); Gross, Ch. (TURCK duotec GmbH); Gabriel, P. D. (TURCK duotec GmbH): Combining CMOS and MEMS technologies in a monolithic system for observing filter pollutions, Proceedings of the 37th Annual Conference of the IEEE Industrial Electronics Society, Melbourne, Australia, November 7-10, ISBN 978-1-61284-971-3, ISSN 1553-572X, doi:10.1109/IECON.2011.6119973
  • Fritzsch, M.; Seidel, R.; Horstmann, J. T.: Nanoampere Stromquelle für integrierte analoge Low-Power-Schaltungstechnik (PDF, 1,2 MB), 11. Chemnitzer Fachtagung Mikrosystemtechnik, 23./24.10.2012, ISBN 978-3-00-039162-0
  • Neubert, M. (EDC GmbH); Heinz, S.; Erler, K.; Horstmann, J. T.; Seidel, R.; Pohle, A. (EDC GmbH); Groß, Ch.; Rönisch, A.; Gabriel, P.D. (TURCK duotec GmbH): A monolithic integrated MEMS in a 350 nm technology for filter monitoring applications, 11. Chemnitzer Fachtagung Mikrosystemtechnik, 23./24.10.2012, ISBN 978-3-00-039162-0
  • Neubert, M. (EDC GmbH); Heinz, S.; Erler, K.; Horstmann, J. T.; Seidel, R.; Pohle, A. (EDC GmbH); Groß, Ch.; Rönisch, A.; Gabriel, P.D. (TURCK duotec GmbH): A monolithic integrated MEMS in a 350 nm technology for filter monitoring applications (PDF, 2,5 MB), 14th Leibnitz Conference of advanced Science, Sensorsysteme 2012, Lichtenwalde, 18./19.10.2012

Presseartikel