Technische Ausstattung
Verbundwerkstoffe
Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
Gerät: FHR Anlagenbau GmbH
Spezifikationen:
- Reaktor: Quarzrohr
- Basisdruck: 1,0 x 10-3 mbar
- Arbeitsdruckbereich: 0,5 – 20 mbar
- Heizer: 5 Klappöfen
- Max. Temperatur: 1000 °C
- Plasmaerzeugung: Induktives HF-Plasma
- Schichtdicke: 20 nm – 1 µm
Anwendungen:
- Chemische Gasphasenabscheidung rein thermisch oder plasmaunterstützt bei reduziertem Druck im Rohrreaktor (Heißwand-Niederdruck-CVD)
- Erzeugung von keramischen und metallischen Schichten auf Drähten, Filamenten, Fasern und Faserbündeln
- Abscheidung von gradierten und Multischichten unter Einsatz von festen, flüssigen und gasförmigen Precursoren
- Plasma-Vorbehandlung von Substraten möglich
Ansprechpartner
Dr.-Ing. Maik Trautmann
- Telefon:+49 371 531-38846
- Fax:+49 371 531-838846
- Raum:3, E01.104 (alt: 3/A104)
- E-Mail:
