Technische Ausstattung
Verbundwerkstoffe
Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD)
Gerät: DC-Magnetronsputteranlage B30.2 TSP
Spezifikationen:
- DC-Magnetronsputteranlage B30.2 TSP
- Sputterquelle 1: TruPlasma DC 3002 – 2,0 kW
- Sputterquelle 2: MagPuls DC-Generator 1,0 kW mit Bipolarer Pulseinheit MP2 - 20 bp
- Magnetron INO’X – 3‘‘
- Targetdurchmesser: 3‘‘ / 76,2 mm
- Max. Basisdruck: 1*10-6 mbar
- Prozessgas: Ar6.0
- Reaktivgase N2, O2
- Substratheizung bis 650 °C
- Rotationseinheit zur Beschichtung von Fasern und Drähten
Anwendungen:
- Abscheidung von dünnen amorphen und kristallinen Feststoffschichten
- Beschichtung von Metallen, Keramiken, Gläsern und Kunststoffen
- Beschichtung von ebenen Substraten sowie Einzelfasern
- Mono- und Multilagenschichten aus Metallen, Oxiden und Nitriden
- Abscheidung von Sensor-, Isolations- und Kontaktschichten
Ansprechpartner
Dr.-Ing. Maik Trautmann
- Telefon:+49 371 531-38846
- Fax:+49 371 531-838846
- Raum:3, 3/A104
- E-Mail:
