Lehrveranstaltung Lithografie für Nanosysteme
Die Einschreibung erfolgt über die OPAL-Plattform, auf der Sie auch weitere Informationen zum Kurs finden.
Studieninhalte
Vorlesungskomplexe- Optische Lithografieverfahren
- Tricks zur Erhöhung der Auflösung optischer Lithografieverfahren
- Elektronenstrahl- und Ionenstrahllithografie
- Röntgenstrahllithografie
- Nano-Imprint-Techniken
- AFM-Lithografie
- Maskenlose Verfahren zur Strukturerzeugung
- Optische Lithografie
- Elektronenstrahllithografie
- Röntgenlithografie
- Ionenstrahllithografie
- Auflösungserhöhende Verfahren (RET)
- Lithografiesimulation im Subwellenlängenbereich
- Auflösungserhöhende Technologien (OPC, SB)
Studiengänge / -gruppen
- Wahlpflichtfach im 2. Semester des Master-Studiengangs Mikrosysteme und Mikroelektronik - Berufsfeld / Vertiefungsrichtung Mikro- und Nanoelektronik (M_MSMN2)
Zeitplan aktuelles Semester
| LV | Wochentag | Seminargruppen | Zeit | Ort | Beginn |
|---|---|---|---|---|---|
| V | mittwochs, 2. Wo | M_MSMN2 | 13:45-15:15 Uhr | C24.201 | 08.04.2026 (1. Wo) |
| V | montags, 1. Wo | M_MSMN2 | 15:30-17:00 Uhr | C25.043 | |
| Ü | mittwochs, 1. Wo | M_MSMN2 | 13:45-15:15 Uhr | C24.201 | 22.04.2026 |
| P | montags, 1. Wo | M_MSMN2 | 09:15-13:00 Uhr | C25.368 |
Achtung, abweichend vom offiziellen Stundenplan werden in der 1. Wo jeweils Vorlesung und Übung getauscht.
Die erste Vorlesung findet jedoch wie geplant statt (siehe unter Beginn).
Die erste Vorlesung findet jedoch wie geplant statt (siehe unter Beginn).
Lehrmaterialien
- Vorlesungsfolien
- 1 - Optische Lithografie 1
- 2 - Optische Lithografie 2
- 3 - Elektronenstrahllithografie
- 4 - Röntgenstrahllithografie
- 5 - Ionentrahllithografie
- 6 - Auflösungserhöhende Verfahren (RET)
- 7 - EUV-Lithografie
- Übungsaufgaben
- 1,2 - Optische Lithografie
- 3 - Elektronenstrahllithografie
- 4 - Röntgenlithografie
- 5 - Ionenstrahllithografie
- 6 - Auflösungserhöhende Verfahren (RET)
- Praktikumsanleitung
Prüfung aktuelles Semester
| Termin: | individuell |
|---|---|
| Raum: | C25.319 (alt: 2/W319) |
| Typ: | mündliche Prüfung, jeweils 30 min |
| Prüfer: | Prof. Horstmann |
| Beisitzer: | M.Sc. Zhang |
