Lehrveranstaltung Lithografie für Nanosysteme
Die Einschreibung erfolgt über die OPAL-Plattform, auf der Sie auch weitere Informationen zum Kurs finden.
Studieninhalte
Vorlesungskomplexe- optische Lithografieverfahren
- Tricks zur Erhöhung der Auflösung optischer Lithografieverfahren
- Elektronenstrahllithografie und Ionenstrahllithografie
- Röntgenstrahllithografie
- Nano-Imprint-Techniken
- AFM-Lithografie
- maskenlose Verfahren zur Strukturerzeugung
- leider noch nicht verfügbar
- Lithografiesimulation im Subwellenlängenbereich
- auflösungserhöhende Technologien (OPC, SB)
Studiengänge / -gruppen
- Wahlpflichtfach im 2. Semester des Master-Studiengangs Mikrosysteme und Mikroelektronik - Berufsfeld / Vertiefungsrichtung Mikro- und Nanoelektronik (M_MSMN2)
Zeitplan aktuelles Semester
| LV | Wochentag | Seminargruppen | Zeit | Ort | Beginn |
|---|---|---|---|---|---|
| V | montags | M_MSMN2 | 13:45-15:15 Uhr | C25.366 | 07.04.2025 |
| Ü | freitags, 2. Wo | M_MSMN2 | 09:15-10:45 Uhr | C25.037 | 02.05.2025 |
| P | freitags, 1. Wo | M_MSMN2 | 09:15-13:00 Uhr | C25.368 |
Lehrmaterialien
- Vorlesungsfolien
- 1 - Optische Lithografie 1
- 2 - Optische Lithografie 2
- 3 - Elektronenstrahllithografie
- 4 - Röntgenstrahllithografie: Grundlagen
- 5 - Ionentrahllithografie und FIB
- 6 - Auflösungserhöhende Verfahren (RET)
- 7 - Lithografie der nächsten Generation (NGL)
- 8 - Nassätzen
- 9 - Trockenätzen und andere Strukturerzeugungsverfahren (PDF, PPT mit Animation)
- 10 - Reinraumtechnik und Kontaminationskontrolle
- 11 - Nanoschichten, Nanopartikel und selbstorganisierende Nanostrukturen
- 12 - mögliche Grenzen der weiteren Bauelementeverkleinerung
- 13 - einfache Herstellung von Sub-50-nm-Transistoren und -strukturen
- Übungsaufgaben
- 1,2 - Optische Lithografie
- 3 - Elektronenstrahllithografie
- 4 - Röntgenlithografie
- 5 - Ionenstrahllithografie
- 6 - Auflösungserhöhende Verfahren
- Praktikumsanleitung
Prüfung aktuelles Semester
| Termin: | individuell |
|---|---|
| Raum: | C25.319 (alt: 2/W319) |
| Typ: | mündliche Prüfung, jeweils 30 min |
| Prüfer: | Prof. Horstmann |
| Beisitzer: | M.Eng. Hafez |
