Professur Elektronische Bauelemente der Mikro- und Nanotechnik
Professur Elektronische Bauelemente der Mikro- und Nanotechnik
Professur Elektronische Bauelemente der Mikro- und Nanotechnik 

Lehrveranstaltung Lithografie für Nanosysteme



Die Einschreibung erfolgt über die OPAL-Plattform, auf der Sie auch weitere Informationen zum Kurs finden.

Studieninhalte

Vorlesungskomplexe
  • Optische Lithografieverfahren
  • Tricks zur Erhöhung der Auflösung optischer Lithografieverfahren
  • Elektronenstrahl- und Ionenstrahllithografie
  • Röntgenstrahllithografie
  • Nano-Imprint-Techniken
  • AFM-Lithografie
  • Maskenlose Verfahren zur Strukturerzeugung
Übungskomplexe
  • Optische Lithografie
  • Elektronenstrahllithografie
  • Röntgenlithografie
  • Ionenstrahllithografie
  • Auflösungserhöhende Verfahren (RET)
Praktikum
  • Lithografiesimulation im Subwellenlängenbereich
  • Auflösungserhöhende Technologien (OPC, SB)

Studiengänge / -gruppen

  • Wahlpflichtfach im 2. Semester des Master-Studiengangs Mikrosysteme und Mikroelektronik - Berufsfeld / Vertiefungsrichtung Mikro- und Nanoelektronik (M_MSMN2)

Zeitplan aktuelles Semester

LVWochentagSeminargruppenZeitOrtBeginn
Vmittwochs, 2. WoM_MSMN213:45-15:15 UhrC24.20108.04.2026 (1. Wo)
Vmontags, 1. WoM_MSMN215:30-17:00 UhrC25.043 
Ümittwochs, 1. WoM_MSMN213:45-15:15 UhrC24.20122.04.2026
Pmontags, 1. WoM_MSMN209:15-13:00 UhrC25.368 
Das Praktikum findet voraussichtlich am Semesterende nach individueller Terminvereinbarung statt.
Achtung, abweichend vom offiziellen Stundenplan werden in der 1. Wo jeweils Vorlesung und Übung getauscht.
Die erste Vorlesung findet jedoch wie geplant statt (siehe unter Beginn).

Prüfung aktuelles Semester

Termin:individuell
Raum:C25.319 (alt: 2/W319)
Typ:mündliche Prüfung, jeweils 30 min
Prüfer:Prof. Horstmann
Beisitzer:M.Eng. Hafez

TUCaktuell