Lehrveranstaltung Lithografie für Nanosysteme
Die Einschreibung erfolgt über die OPAL-Plattform, auf der Sie auch weitere Informationen zum Kurs finden.
Studieninhalte
Vorlesungskomplexe- Optische Lithografieverfahren
- Tricks zur Erhöhung der Auflösung optischer Lithografieverfahren
- Elektronenstrahl- und Ionenstrahllithografie
- Röntgenstrahllithografie
- Nano-Imprint-Techniken
- AFM-Lithografie
- Maskenlose Verfahren zur Strukturerzeugung
- Optische Lithografie
- Elektronenstrahllithografie
- Röntgenlithografie
- Ionenstrahllithografie
- Auflösungserhöhende Verfahren (RET)
- Lithografiesimulation im Subwellenlängenbereich
- Auflösungserhöhende Technologien (OPC, SB)
Studiengänge / -gruppen
- Wahlpflichtfach im 2. Semester des Master-Studiengangs Mikrosysteme und Mikroelektronik - Berufsfeld / Vertiefungsrichtung Mikro- und Nanoelektronik (M_MSMN2)
Zeitplan aktuelles Semester
| LV | Wochentag | Seminargruppen | Zeit | Ort | Beginn |
|---|---|---|---|---|---|
| V | mittwochs | M_MSMN2 | 13:45-15:15 Uhr | C24.201 | 08.04.2026 |
| Ü | montags, 1. Wo | M_MSMN2 | 15:30-17:00 Uhr | C25.043 | 20.04.2026 |
| P | montags, 1. Wo | M_MSMN2 | 09:15-13:00 Uhr | C25.368 |
Lehrmaterialien
- Vorlesungsfolien
- 1 - Optische Lithografie 1
- 2 - Optische Lithografie 2
- 3 - Elektronenstrahllithografie
- 4 - Röntgenstrahllithografie
- 5 - Ionentrahllithografie
- 6 - Auflösungserhöhende Verfahren (RET)
- 7 - EUV-Lithografie
- Übungsaufgaben
- 1,2 - Optische Lithografie
- 3 - Elektronenstrahllithografie
- 4 - Röntgenlithografie
- 5 - Ionenstrahllithografie
- 6 - Auflösungserhöhende Verfahren (RET)
- Praktikumsanleitung
Prüfung aktuelles Semester
| Termin: | individuell |
|---|---|
| Raum: | C25.319 (alt: 2/W319) |
| Typ: | mündliche Prüfung, jeweils 30 min |
| Prüfer: | Prof. Horstmann |
| Beisitzer: | M.Eng. Hafez |
