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Professur Elektronische Bauelemente der Mikro- und Nanotechnik
Professur Elektronische Bauelemente der Mikro- und Nanotechnik
Professur Elektronische Bauelemente der Mikro- und Nanotechnik 

Layoutverarbeitungstools der Professur


Zur Unterstützung des Layoutentwurfs und der Maskenfertigung wurden an der Professur diverse Programme entwickelt. Die Software ist unter OpenVMS lauffähig und basiert auf dem sehr kompakten Layoutformat GS.

Layoutkonvertierungstools

  • Konvertierung GS → DXF (Drawing Exchange Format)
  • Konvertierung DXF → GS
  • Konvertierung GS → FIG (für SiMODE-Figuren)
  • Konvertierung FIG → GS
  • Konvertierung GS → GDS2 (Calma Stream)
  • Konvertierung GDS2 → GS
  • Konvertierung GS → SHP (Shape Format)
  • Konvertierung SHP → GS
  • Konvertierung GS → GPC (für Murtas GPC-Library)
  • Konvertierung GPC → GS
  • Konvertierung GS → SEF (Sorted Edge Format)
  • Konvertierung SEF → GS
  • Konvertierung GS → EPS
  • Rekonstruktion von fragmentierten GDS2-Dateien

nichtgrafische Layoutmanipulation

  • automatische und manuelle Layoutverschiebung
  • Spiegelung und rechtwinklige Drehung
  • inkrementale Drehung um beliebige Winkel und Punkte
  • Umrastern und Skalieren
  • Umbenennung und Löschen von Layern
  • isotrope Kantenverschiebung (Resizing)
  • Vereinigen von Gruppen (Zellen)
  • Vereinigen von Layern
  • Erzeugen von beliebigen Kreisringsegmenten (in Rechtecke vorzerlegt)
  • Erzeugen von beliebigen Spiralfiguren (in Rechtecke vorzerlegt)
  • Umwandlung von nicht oktogonalen Polygonkanten in Stufen
  • Umwandlung von Polygonkanten in Rechtecke (konkav/konvex)
  • Umwandlung von Kreisfiguren in Polygone (für Belichtungsdatenerzeugung)
  • Umwandlung von Leitbahnfiguren in Polygone (für Belichtungsdatenerzeugung)
  • Zerlegen von Kreisen und achsparallelen Polygonen in Rechtecke (für Belichtungsdatenerzeugung)
  • Tonwertdrehung (Invertierung) von beliebigen Einzelfiguren
  • Layoutteilung (Zerlegung unhandlicher Layouts)
  • stufenweises layerabhängiges Auflösen (Flatten)
  • mäanderförmige Figursortierung (PATT- und PLOT-Optimierung)
  • logische Layerverknüpfungen (basierend auf Murtas GPC-Library)
  • logische Layerverknüpfungen (Scanline-basierend)

Analyse- und Ausgabetools

  • Ermittlung der Belichtungsfläche und des Bedeckungsgrades
  • figurweise Mittelpunktermittlung (für Laser-Bohrungen)
  • Statistik von GS-Dateien mit Aufruf- und Polygonanalyse
  • Polygoncheck und -korrektur
  • Plotten auf HP7475, HP7586B und NovaJET (A4 bis A0)
  • referenzdateigesteuerte Ausgabe auf Postscript-Drucker (A4 bis A0, Bitmapfüllung, Ausschnittsdarstellung)
  • komfortable grafische Darstellung auf VT240/340 bzw. DECterm
  • referenzdateigesteuerte grafische Darstellung auf X-Terminal (Bitmapfüllung, Zoom, Gitter, Messmöglichkeiten)

CAM-Tools (Patterngenerator und E-Beam)

  • Konvertierung GS → MANN3600 (MANN3000)
  • Analyse von Patterngenerator-Belichtungsdaten (MANN3600) auf X-Terminal (Statistik, Fülloptionen, Zoom, Gitter, Messmöglichkeiten)
  • grafische Ausgabe von MANN-Belichtungsdaten auf VT240/340 bzw. DECterm
  • Konvertierung MANN → GS
  • Kopieren von MANN-Belichtungsdaten auf Magnetband
  • Kopieren von MANN-Magnetbändern auf Platte
  • Anzeige der Directory von MANN-Magnetbändern
  • Anzeige der einzelnen Flashs von MANN-Belichtungsdateien
  • ASCII-Ausgabe von MANN-Magnetbändern
  • Analyse von E-Beam-Daten (ZBA21/DASY) auf X-Terminal (Strukturstatistik, intensitätsabhängige Farbe, Fülloptionen, Zoom, Gitter, Messmöglichkeiten)
  • Analyse und GS-Konvertierung von E-Beam-Daten (ZBA21/DASY)
  • Schreiben von E-Beam-Daten auf Magnetband
  • Verschmelzen von E-Beam-Datensätzen
  • Gruppe vieler Menschen

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