Abscheidung hochreflektierender Vergütungsschichten für mikromechanische Komponenten

P. Schlott, H. Kupfer, F. Richter
Technische Universität Chemnitz, Institut für Physik
Physik fester Körper D - 09107 Chemnitz
Germany

Auf mikromechanischen Scannerelementen werden Interferenzschichtsysteme zur Verbesserung der Reflexionseigenschaften abgeschieden. Dazu werden Nb₂O₅- und SiO₂- Schichten im reaktiven Mag- netronsputterverfahren hergestellt. Für die konkreten Anforderungen an die Reflexionseigenschaften werden spezielle Schichtdesigns entworfen, welche z.B. für drei diskrete Wellenlängen einen Reflexionsgrad >= 96% gewährleisten. Zur Kompensation der Schichtspannungen werden Metallschichten (Chrom) eingesetzt.