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LOCATION:Uni-Teil 3: Reichenhainer Str. 70\, Chemnitz (Rühlmann-Bau)
SUMMARY:Kolloquium des SFB 379 "Mikromechanische Sensor- und Aktorarrays": Elektronenstrahllithographie für 2- und 3-dimensionale Mikrostrukturen (Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik\, Zentrum für Mikrotechnologien)
DESCRIPTION:Die Elektronenstrahllithographie wurde zum Direktschreiben/Maskenherstellung mikroelektronischer Strukturen entwickelt. \nIn steigendem Maße sind Mikrostrukturen erforderlich\, deren Charakteristika erheblich von denen \nder Mikroelektronik abweichen. \n\nDr. Ernst-Bernhard Kley\, FSU Jena\, Institut für Angewandte Physik\nDr. Seckel\, 531 3261
ORGANIZER:MAILTO:seckel@hrz.tu-chemnitz.de
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