Chemnitzer Weiterbildungskurs „Elektrochemische Schichten“ –

Wissen, was wichtig ist!

Vom 08. bis 09. November 2011 veranstaltete das Institut für Werkstoffwissenschaft und Werkstofftechnik (IWW) der TU Chemnitz seinen jährlich stattfindenden Weiterbildungskurs „Elektrochemische Schichten“. Erneut nahmen viele Teilnehmer aus der Industrie und von Ausbildungsstätten an dem interessanten Fortbildungsprogramm teil (Bild 1). Durch die Vorträge und die Diskussion war es allen Teilnehmern möglich, ihr Wissen zu erweitern bzw. aufzufrischen. Besonders begrüßt wurde die inhaltliche Ausrichtung auf die Grundlagen und die Modellierung des galvanischen Beschichtens sowie deren ausführliche Vertiefung durch praktische Anwendung.


Die diesjährigen Themen waren:

  • Grundlagen der galvanischen Beschichtung - Dr. Scharf
  • Gestaltung galvanischer Prozesse - Vermeidung von Beschichtungsfehlern - Dr. Kühler
  • Modellierung galvanischer Prozesse - Dr. Halle
  • Kennfeldbasierte Simulation zur Planung und Abscheidung galvanisch erzeugter Oberflächen - Dipl.-Ing. Mollath
  • Modellierung und Simulation von Verfahrensprozessen der Galvano- und Oberflächentechnik - Dr. Giebler
  Bild 1: Teilnehmer des Weiterbildungskurses "Elektrochemische Schichten"

 

 
Nach der Begrüßung der Teilnehmer durch den Leiter der Veranstaltung, Herrn Professor Lampke, referierte Herr Dr. Scharf (IWW) zur Einführung über die Grundlagen der galvanischen Beschichtung. In seinen Ausführungen ging er zudem allgemein auf elektrochemische Grundlagen der Schichtbildung und die Vermeidung von Fehlern ein. Im Überblick wurden auch Entwicklungstendenzen im Bereich "Pulse Plating" behandelt.

Um die Vermeidung von Beschichtungsfehlern ging es im Referat von Herrn Dr. Kühler von der Firma Coventya. Nach einer Einführung in die Thematik wurden u. a. Schichtsysteme, Kontaktkorrosion und die Metallverteilung beim Kathodischen Korrosionsschutz erläutert. Besonderen Wert legte er weiterhin auf die Steuerung der Streufähigkeit des Elektrolyten und die Bedeutung der Vorbehandlung.

Nach den Vormittagsveranstaltungen wurden am ersten Tag in kleinen Gruppen Experimente zum Galvanisieren (Hull-Zelle) sowie zur Farb- und Glanzbestimmung anhand ausgewählter Beispiele im Labor durchgeführt (Bild 2). In einer beliebten Chemnitzer Gastronomie klang der erste Tag mit Gesprächen in lockerer Atmosphäre bei guten Speisen und würzigem Bier aus.
Bild 2: Offensichtlich viel Spaß hatten die in kleinen Gruppen arbeitenden Teilnehmer bei der Abscheidung galvanischer Schichten.  
Am zweiten Tag des Kurses standen die Möglichkeiten zur Modellierung galvanischer Prozesse, auf unterschiedlichen Modellierungsebenen im Fokus. Zuerst berichtete Herr Dr. Halle, IWW, einführend über die mathematischen und physikalischen Grundlagen und die Wege diese im Modell abzubilden. Anschließend referierte Herr Dipl.-Ing. Mollath vom Fraunhofer IPK in Berlin und Herr Dr. Giebler von der TU Dresden über Modellierungsmöglichkeiten für die industrielle Praxis. Den Teilnehmern wurde demonstriert wie mit Hilfe von neuronalen Netzen und kennfeldbasierter Simulation Ergebnisse bei der galvanischen Abscheidung vorhersagbar sind. Den Abschluss der Vortragsreihe bildete ein Vortrag zur Modellierung und Simulation von Verfahrensprozessen der Galvanotechnik, bei dem nicht die erzeugte Schicht sondern die für die Schichterzeugung eingesetzten Prozesse und deren modellhafte Abbildung und Parameterauslegung im Mittelpunkt standen.

Erneut konnten in der Nachmittagsveranstaltung die am Morgen gehörten theoretischen Grundlagen in Form einer praktischen Übung zur internetbasierten Simulation galvanotechnischer Verfahrensprozesse angewandt und vertieft werden (Bild 3). In der von Professor Lampke moderierten Abschlussdiskussion wurden abschließende Fragen erörtert und schließlich ein sehr positives Resümee gezogen.

Der nächste Kurs wird im November 2012 an gleicher Stelle mit aktuellen Themen aus der Oberflächentechnik stattfinden.
Bild 3: Praktische Übung zur internetbasierten Simulation galvanotechnischer Verfahrensprozesse