Vorlesungsankündigung Lithografie für Nanosysteme
Wahlpflichtfach für M_MSMN2
Umfang
| SS 20: | 2V, 1Ü, 1P |
Inhalt
- optische Lithografieverfahren
- Tricks zur Erhöhung der Auflösung optischer Lithografieverfahren
- Elektronenstrahllithografie und Ionenstrahllithografie
- Röntgenstrahllithografie
- Nano-Imprint-Techniken
- AFM-Lithografie
- maskenlose Verfahren zur Strukturerzeugung
- siehe auch hier ...
Abschluss
schriftliche Prüfung nach SS 20Zeitplan
| LV | Wochentag | Seminargruppen | Zeit | Ort | Beginn |
|---|---|---|---|---|---|
| V | mittwochs | M_MSMN2 | 17:15-18:45 Uhr | 2/A001 | 08.04.2020 |
| Ü | donnerstags, 1. Wo | M_MSMN2 | 09:15-10:45 Uhr | 2/W065 | 09.04.2020 |
| P | dienstags, 2. Wo | M_MSMN2 | 09:15-13:00 Uhr | 2/W368 |
