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Professur Elektronische Bauelemente der Mikro- und Nanotechnik
Professur Elektronische Bauelemente der Mikro- und Nanotechnik

Vorlesungsankündigung Lithografie für Nanosysteme

Wahlpflichtfach für M_MSMN2


Umfang

SS 20:2V, 1Ü, 1P

Inhalt

  • optische Lithografieverfahren
  • Tricks zur Erhöhung der Auflösung optischer Lithografieverfahren
  • Elektronenstrahllithografie und Ionenstrahllithografie
  • Röntgenstrahllithografie
  • Nano-Imprint-Techniken
  • AFM-Lithografie
  • maskenlose Verfahren zur Strukturerzeugung
  • siehe auch hier ...

Abschluss

schriftliche Prüfung nach SS 20

Zeitplan

LVWochentagSeminargruppenZeitOrtBeginn
VmittwochsM_MSMN217:15-18:45 Uhr2/A00108.04.2020
Üdonnerstags, 1. WoM_MSMN209:15-10:45 Uhr2/W06509.04.2020
Pdienstags, 2. WoM_MSMN209:15-13:00 Uhr2/W368 
Das Praktikum findet voraussichtlich am Semesterende nach individueller Terminvereinbarung statt.

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