Verteilung des Plasmapotentials während der "An"-Phase einer gepulsten Magnetronentladung, und zwar
während des Spannungsmaximums (oben) und am Ende der "An"-Phase (unten)
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Forschungsschwerpunkt der Professur ist die Aufklärung elementarer Mechanismen
beim Wachstum dünner Schichten unter hohem Energieeintrag, beispielsweise mittels
Magnetronzerstäubung oder Plasma-CVD. Dabei werden die schichtbildenden Teilchenströme
mittels Langmuir-Sondentechnik, optischer Emissionsspektroskopie und anderer moderner
Verfahren charakterisiert. Darauf aufbauend werden physikalische Modelle der
Abscheideverfahren aufgestellt, mit dem Ziel, die Zusammenhänge zwischen
Abscheideprozess, Schichtstruktur und Schichteigenschaften besser zu verstehen.
Die Schichtanalyse erfolgt in enger Zusammenarbeit mit anderen Gruppen; eigene
Arbeiten konzentrieren sich auf die Charakterisierung mechanischer Eigenschaften
von Schicht-Substrat-Verbunden. Hierzu wurden eigene neuartige Methoden entwickelt,
die auf einer Kombination von Nanoindentation und theoretischer Modellierung beruhen.
Diese Methoden gestatten es, mechanische Größen wie Elastizitätsmodul oder
Fließspannung auch an Schichten unterhalb 50 nm Dicke zu messen.
Die Professur führt Vorlesungen und Seminare in Experimentalphysik für Studierende
verschiedener Fachrichtungen durch. Außerdem wird ein Wahlpflichtfach "Physikalische
Technologien (Laser, Plasma, Vakuum)" angeboten.
Internationale Zusammenarbeit gibt es u.a. mit Universitäten in Uppsala (Schweden),
Pilsen (Tschechische Republik) sowie Manchester und Liverpool (Großbritannien),
außerdem mit Forschungsinstituten in Australien,
Japan, Korea und den USA. Die Arbeitsgruppe ist beteiligt
am Sonderforschungsbereich Transregio 39 "PT-PIESA" und am Spitzentechnologiecluster "Energieeffiziente Produkt- und Prozessinnovationen in der Produktionstechnik" (eniPROD).
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